據(jù)悉，信越化學(xué)之所以停止供貨部分晶圓廠KrF光刻膠，與2月份日本福島東部海域發(fā)生7.3級地震有莫大關(guān)聯(lián)。地震導(dǎo)致信越化學(xué)KrF光刻膠產(chǎn)線受到很大程度的破壞，至今尚未完全恢復(fù)生產(chǎn)。在產(chǎn)線受到影響和晶圓廠擴產(chǎn)等多方因素下，信越化學(xué)不得不停止向中國大陸幾家晶圓廠供應(yīng)KrF光刻膠。雖然東京應(yīng)化填補了信越化學(xué)海外大部分缺失的KrF光刻膠產(chǎn)能，但目前仍存在不小的缺口，中國大陸多家晶圓廠正在加速驗證導(dǎo)入本土廠商的KrF光刻膠。

日本企業(yè)壟斷光刻膠市場

光刻工藝約占整個芯片制造成本的 35%，耗時占整個芯片工藝的 40-50%，是半導(dǎo)體制造中最核心的工藝。而光刻膠則是光刻過程的關(guān)鍵耗材，一般由由感光樹脂（聚合劑）、增感劑（光引發(fā)劑）、溶劑與助劑構(gòu)成。光刻膠的質(zhì)量和性能對光刻工藝有著重要影響，因其技術(shù)壁壘高而長期被海外大廠所主導(dǎo)，是半導(dǎo)體國產(chǎn)化的一道大坎。
 

(圖自方正證券)

去年日本斷供韓國光刻膠事件，就讓世界意識到日本在光刻膠領(lǐng)域的地位。目前全球光刻膠主要企業(yè)有日本合成橡膠（JSR）、東京應(yīng)化（TOK）、住友化學(xué)、信越化學(xué)、羅門哈斯等，市場集中度非常高，所占市場份額超過85%，在高端EUV光刻膠上甚至占比達95%以上。
 

(圖自方正證券)

據(jù)央視財經(jīng)報道，今年年初以來半導(dǎo)體光刻膠供應(yīng)極為短缺，以往企業(yè)每次采購的光刻膠量約在100kg，近期由于原材料短缺，每期只能采購到10kg-20kg，價格方面也隨之水漲船高。其中，光刻膠關(guān)鍵材料稀釋劑從4月份價格提高50%，這也進一步傳導(dǎo)至光刻膠價格上漲。

再加之，由于全球晶圓代工產(chǎn)能不足，產(chǎn)能擴充一直在進行中，光刻膠市場需求也在保持穩(wěn)定增長，但實際產(chǎn)能開出并沒有與晶圓廠形成匹配。

光刻膠的種類

光刻膠經(jīng)過幾十年不斷的發(fā)展和進步，應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴大，衍生出非常多的種類，根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域，光刻膠可分為半導(dǎo)體光刻膠、 平板顯示光刻膠和 PCB 光刻膠，其技術(shù)壁壘依次降低。

相應(yīng)地，PCB 光刻膠是目前國產(chǎn)替代進度最快的，LCD 光刻膠替代進度相對較快，半導(dǎo)體光刻膠目前國產(chǎn)技術(shù)較國外先進技術(shù)差距最大。

光刻膠按下游應(yīng)用分類（圖自方正證券）

根據(jù)化學(xué)反應(yīng)機理，光刻膠可分為負性光刻膠和正性光刻膠兩類。二者在 PCB、面板、半導(dǎo)體中都有廣泛應(yīng)用，但是 ArF 光刻膠和 EUV 光刻膠基本都是正膠。

由于負性光刻膠顯影時易變形和膨脹，分辨率通常只能達到 2 微米，因此正性光刻膠的應(yīng)用更為普及。

正性光刻膠與負性光刻膠參數(shù)（圖自方正證券）

正性光刻膠與負性光刻膠光刻對比（圖自國盛證券）

據(jù)介紹，隨著芯片跨入納米級，半導(dǎo)體光刻膠的波長也在不斷縮短，已經(jīng)由紫外寬譜逐步發(fā)展到g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、ArF Immersion 浸潤式，以及最先進的EUV（<13.5nm）線水平。光刻膠波長越短，研發(fā)難度越大，適應(yīng)工藝越先進，EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠均為高端光刻膠產(chǎn)品。

國內(nèi)光刻膠公司有哪些？

今年以來，除了臺積電、三星、英特爾、聯(lián)電等晶圓廠積極擴產(chǎn)外，中芯國際、華虹宏力、廣州粵芯等多家本土晶圓廠積極擴產(chǎn)和產(chǎn)能釋放，這也就導(dǎo)致國內(nèi)光刻膠需求量遠大于本土產(chǎn)量，且差額逐年擴大，尤其是在高端KrF、ArF等半導(dǎo)體光刻膠。

然而，截至目前，國內(nèi)能夠批量供應(yīng)KrF、ArF光刻膠的廠商卻為數(shù)不多。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，日本幾大廠商在g線/i線、KrF、ArF膠市場中市占率分別為61%、80%、93%，而國內(nèi)g線/i線自給率約為20%，KrF光刻膠的自給率不足5%，12寸硅片的ArF光刻膠目前尚無國內(nèi)企業(yè)可以大規(guī)模生產(chǎn)。

大基金二期已經(jīng)明確主要投資的領(lǐng)域為半導(dǎo)體制造設(shè)備領(lǐng)域和半導(dǎo)體材料領(lǐng)域。在半導(dǎo)體材料方面，重點關(guān)注大硅片、光刻膠、掩膜板、電子特氣等領(lǐng)域。當(dāng)前國內(nèi)主要的光刻膠生產(chǎn)商有：

容大感光：公司的光刻膠產(chǎn)品主要包括紫外線正膠、紫外線負膠兩大類產(chǎn)品以及稀釋劑、顯影液、剝離液等配套化學(xué)品，主要應(yīng)用于集成電路、平板顯示、發(fā)光二極管制造等領(lǐng)域。

雅克科技：公司光刻工藝中所涉及到的電子化學(xué)品，包括稀釋劑、顯影液、漂洗液、剝離液等，光刻膠配套試劑與光刻膠配套使用。

彤程新材：走在前列，其ArF光刻膠已經(jīng)量產(chǎn)，KrF光刻膠尚在研發(fā)過程中。股價自去年一波大炒后也未出現(xiàn)明顯下跌，也是資金認可的體現(xiàn)，本周連陽回升，已有資金開始著手布局。

上海新陽：主攻KrF和干法ArF光刻膠，目前已進入產(chǎn)能建設(shè)階段。去年大漲讓人印象深刻，如今幾乎跌回原點，調(diào)整較為充分，今天也是底部出長陽，再給些時間消化下降趨勢的壓力后，將會有更好表現(xiàn)。

南大光電：子公司寧波南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠已通過客戶認證。

晶瑞股份：KrF光刻膠已經(jīng)完成中試，正進入客戶測試階段，ArF光刻膠尚在研發(fā)過程中。今天晶瑞股份沖高18%，直接創(chuàng)下了去年10月以來的高點，而且在兩個月前已經(jīng)完成扭轉(zhuǎn)趨勢，現(xiàn)在已經(jīng)在上升趨勢中了，有回調(diào)就是機會。

今年初，晶瑞股份曾購買ASMLXT 1900 Gi型ArF浸入式（DUV）光刻機一臺，用于高端光刻膠研發(fā)，相關(guān)閱讀：《蘇州企業(yè)千萬美元購得ASML光刻機，卻不用來造芯片》

日本14種材料均占逾50%的市場份額

事實上，作為全球最主要的半導(dǎo)體材料輸出國，日本擁有絕對地位的半導(dǎo)體材料品種不只有光刻膠。在一份廣發(fā)證券2014年的研究報告中統(tǒng)計：

生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片需要 19 種必須的材料，缺一不可，且大多數(shù)材料具備極高的技術(shù)壁壘；而日本企業(yè)在硅晶圓、合成半導(dǎo)體晶圓、光罩、光刻膠、藥業(yè)、靶材料、保護涂膜、引線架、陶瓷板、塑料板、 TAB、 COF、焊線、封裝材料等 14 中重要材料方面均占有 50%及以上的份額。

其中，日本國內(nèi)更是有著三家世界級半導(dǎo)體材料龍頭企業(yè)。

第一家就是上文提到的信越化學(xué)，是全球最大的半導(dǎo)體硅片供應(yīng)商，占據(jù)全球半導(dǎo)體硅片市場中27%的份額。光刻膠他們也在做，主要切入點是KrF和ArF，EUV光刻膠也在開發(fā)，在中國大陸有不少FAB廠客戶；

第二家是凸版印刷株式會社，全球最大的光罩生產(chǎn)商，占據(jù)全球超過30%的光罩市場份額；

第三家是日本合成橡膠公司，全球最大、技術(shù)是最領(lǐng)先的光刻膠生產(chǎn)商，其生產(chǎn)的氟化氬光刻膠占據(jù)全球40%以上的市場份額。Intel、三星和臺積電都是JSR核心客戶，I-line、KrF、ArF、EUV光刻膠產(chǎn)品全覆蓋。

最后附上一張日本半導(dǎo)體材料的市場份額：