今日，七彩化學在投資者互動平臺表示，公司計劃年底投產(chǎn)，主要用紫外正型光刻膠產(chǎn)品，主要對應顯示器、封裝OLED，第三代半導體等。
此類正性光刻膠在使用時的曝光波長為300-450 nm，曝光波長越短，成像分辨率越高。此類光刻膠的圖形特征尺寸最小可達到200納米。
項目正處在待調試階段，能否達到預期水平，存在不確定性，請投資者注意風險。
至關重要的光刻膠
作為半導體制造的核心流程，光刻工藝對于芯片制造來說至關重要，成本約占芯片總成本的35%，耗時約占整個芯片總耗時的50%，而光刻膠是光刻工藝最重要的耗材。
目前全球光刻膠主要企業(yè)有日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、住友化學、信越化學、羅門哈斯等，市場集中度非常高，所占市場份額超過85%，在高端EUV光刻膠上甚至占比達95%以上。
國產(chǎn)光刻膠快馬加鞭
如今，無論先進制程，還是成熟制程，全球芯片制造業(yè)都在建廠，擴產(chǎn)。國內光刻膠需求量遠大于本土產(chǎn)量，且差額逐年擴大，尤其是在高端KrF、ArF等半導體光刻膠。
2021 年一季度，全球光刻膠市場維持增長態(tài)勢再創(chuàng)新高，達到 5.67 億美元，較上年同期增長 19.5%。中國大陸光刻膠市場達 1.1 億美元，較上年同期增長 52.7%。
在此背景下，國內光刻膠廠商快馬加鞭，加快前進的步伐，近年在半導體光刻膠關鍵技術領域取得突破。目前，國內涉足研發(fā)KrF級別以上產(chǎn)品的公司有徐州博康、彤程新材、南大光電、上海新陽、晶瑞股份。
徐州博康：從事光刻材料領域中的中高端化學品業(yè)務，旗下漢拓光學產(chǎn)品線覆蓋電子束光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠、I線光刻膠等半導體光刻膠系列產(chǎn)品。
此前獲華為3億投資，今年投建新生產(chǎn)基地，建成后將擁有年產(chǎn)1100t光刻材料的產(chǎn)能，年產(chǎn)值20億元，利稅超億元。
彤程新材：唯一被SEMI列入全球光刻膠八強的中國光刻膠公司，其ArF光刻膠已經(jīng)量產(chǎn)，旗下北京科華的KrF光刻膠已經(jīng)批量供應國內主要的12吋、8吋晶圓廠。
上海新陽：積極布局光刻膠業(yè)務，主攻KrF和干法ArF光刻膠，目前已進入產(chǎn)能建設階段。自主研發(fā)的KrF光刻膠產(chǎn)品已通過客戶認證，并成功取得訂單，暫無EUV光刻膠研發(fā)計劃。公司預計KrF厚膜光刻膠可在2022年實現(xiàn)穩(wěn)定量產(chǎn)銷售，ArF光刻膠將于2023年開始量產(chǎn)。
南大光電：專業(yè)從事高純電子材料研發(fā)，從前驅體、電子特氣、光刻膠三大半導體材料布局。其自主研發(fā)的ArF光刻膠可以達到90nm-14nm的集成電路工藝節(jié)點，并已經(jīng)實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化。目前，南大光電已經(jīng)完成2條光刻膠生產(chǎn)線建設。
晶瑞股份：KrF光刻膠已經(jīng)完成中試，正進入客戶測試階段，ArF光刻膠尚在研發(fā)過程中。此前，晶瑞股份曾購買ASMLXT 1900 Gi型ArF浸入式（DUV）光刻機一臺，用于高端光刻膠研發(fā)。
