在拜登政府強力施壓下，荷蘭政府周三（8 日）證實，ASML在夏季前將禁售部分「最先進」的深紫外光（DUV）設(shè)備給中國大陸。對此，ASML執(zhí)行長Peter Wennink警告，美國對大陸采取更嚴苛的出口限制，迫使大陸全力強化自家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，ASML比以往任何時候，更加擔(dān)心自己的技術(shù)最終被中國攻破。Wennink提到，美國對大陸實施晶片嚴厲制裁，中國別無選擇，只能打造自己的先進晶片生態(tài)系，一旦遭美方切斷供應(yīng)，中國大陸采用任何手段規(guī)避西方制裁自己動手建立自己的晶片產(chǎn)業(yè)供應(yīng)鏈是理所當(dāng)然的。而最終美國不僅搞不垮中國，很可能適得其反。自2019年以來，ASML研發(fā)的最先進極紫外光（EUV）設(shè)備已禁止銷往中國。如今限制更進一步，ASML將對華限制出口DUV光刻機等半導(dǎo)體技術(shù)，加上日本也會本月跟進美國新政，中國芯片制造企業(yè)將無法得到新的光刻機設(shè)備和服務(wù)，這對于中國芯片行業(yè)發(fā)展有深遠影響。據(jù)悉，光刻機在芯片制造中扮演關(guān)鍵角色。在半導(dǎo)體制造行業(yè)，DUV光刻機可以用于制造7nm及以上制程的芯片，涵蓋了大部分數(shù)字芯片和幾乎所有的模擬芯片，隨著先進制程向5nm及以下進化，EUV成為未來光刻技術(shù)和先進制程的核心，主要用于7nm及以下先進芯片制造工藝，荷蘭ASML是唯一的供應(yīng)商。
去年底，華為公布了一項與EUV光刻機相關(guān)的專利，能夠提升光刻機的精度以及良品率：據(jù)介紹，華為的這項專利發(fā)明的核心內(nèi)容，是提供了一種反射鏡、光刻裝置及其控制方法，能夠解決相干光icon因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，而且，華為研制的光刻設(shè)備可以在不改變光刻設(shè)備與基板的相對位置的情況下制備所需的圖案，從而避免了平移步驟和對準步驟，從而提高了處理效率以及在基板上的形成。
先不談這項專利何時才能落地，但華為此舉是否意味著對中國“卡脖子”的光刻機市場終于要迎來破局了呢，又是否代表國內(nèi)的芯片行業(yè)要逐漸跟國外說再見了？
華為此次入局光刻機市場其實是一個很好的信號，意味著國內(nèi)光刻機市場已經(jīng)迎來了一個更好的研發(fā)布局環(huán)境，國產(chǎn)光刻機市場也正迎來一個最好的發(fā)展時期，至于何時我們才能見到一臺真正印有Made in China的高端光刻機，還得將希望寄予國內(nèi)的芯片行業(yè)。目前國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)鏈已經(jīng)初具規(guī)模，除了華為之外，上海微電子、國望光學(xué)、國科精密、華卓精科等國產(chǎn)企業(yè)都在光刻機領(lǐng)域略有造詣，幾乎所有與光刻機相關(guān)的領(lǐng)域國內(nèi)都有相關(guān)的公司與產(chǎn)業(yè)分布。靠山山倒，靠人人跑，只有自己最可靠。核心工藝和裝備只有掌握在我們自己手中，才能避免受制于人。路漫漫其修遠兮，我國要想在光刻機領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)完全自主國產(chǎn)化，還有很長的路要走。
