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這項(xiàng)技術(shù),將大幅降低SiC/GaN成本

已有763次閱讀2024-06-14標(biāo)簽:
 
日本旭化成在功率半導(dǎo)體等用的氮化鋁基板方面,成功將可使用面積擴(kuò)大至以往量產(chǎn)產(chǎn)品的4.5倍。采用直徑4英吋(約100毫米)的基板,可使用面積從原來(lái)的80%擴(kuò)大至99%。邁向?qū)嵱没脑u(píng)估成為可能,今后將開(kāi)始向半導(dǎo)體廠商供應(yīng)樣品,力爭(zhēng)到2027年作為基板實(shí)現(xiàn)實(shí)用化。

面向新一代功率半導(dǎo)體的碳化矽(SiC)和氮化鎵(GaN)等材料的研發(fā)取得進(jìn)展,但在化合物半導(dǎo)體中,氮化鋁耐高電壓的指標(biāo)最高,因此電力損耗最小。實(shí)用化需要實(shí)現(xiàn)大口徑化,2023年在全球首次成功實(shí)現(xiàn)4英吋化。此次將可使用面積從原來(lái)的80%增至99%,達(dá)到了可面向?qū)嵱没M(jìn)行評(píng)估和驗(yàn)證的尺寸。
 

可使用面積與傳統(tǒng)量產(chǎn)產(chǎn)品的2英吋相比增至4.5倍,有助于削減成本。此前,基板的邊緣存在無(wú)法使用的部分,但在制造工序的溫度變化等方面下功夫,使之可使用99%。為了今后實(shí)現(xiàn)實(shí)用化,向數(shù)家半導(dǎo)體廠商提供了樣品。作為基板,力爭(zhēng)2027年前實(shí)現(xiàn)可用,2029年前后在使用氮化鋁基板的功率半導(dǎo)體的設(shè)備上搭載。
 

利用可應(yīng)對(duì)高頻率的特點(diǎn)等,預(yù)計(jì)首先將用于衛(wèi)星通信和5G基地臺(tái)。今后計(jì)劃將口徑進(jìn)一步擴(kuò)大至6英吋。高級(jí)研究員久世直洋表示「將來(lái)還計(jì)劃應(yīng)用于充電器等汽車用途」。
 

此前,旭化成一直在用于殺菌的深紫外線LED上使用氮化鋁基板。此次將向設(shè)備制造企業(yè)提供由美國(guó)子公司Crystal IS (紐約州)制造的基板,預(yù)計(jì)將用于新一代功率半導(dǎo)體和高頻設(shè)備等。制造的費(fèi)用不會(huì)因基板的尺寸而有太大變化,基板的大型化對(duì)旭化成來(lái)說(shuō)也有助于提高利潤(rùn)。
 

在新一代功率半導(dǎo)體用基板方面,各化工企業(yè)正在推進(jìn)開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)增強(qiáng)。在GaN基板方面,日本住友化學(xué)已形成4英吋的量產(chǎn)體制,力爭(zhēng)在年內(nèi)實(shí)現(xiàn)6英吋的客戶評(píng)估,三菱化學(xué)集團(tuán)已開(kāi)始4英吋的樣品供貨。Resonac控股計(jì)劃在2027年4月以后,增強(qiáng)SiC基板的日本國(guó)內(nèi)產(chǎn)能。

 

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