據(jù)悉，該掩膜版由晶合集成生產(chǎn)，意味著晶合集成在晶圓代工領域成為臺積電、中芯國際之后，可提供資料、光刻掩模版、晶圓代工全方位服務的綜合性企業(yè)。

目前，晶合集成可提供28-150納米的光刻掩模版服務，將于今年四季度正式量產(chǎn)，服務范圍包括光刻掩模版設計、制造、測試及認證等，計劃為晶合客戶提供4萬片/年的產(chǎn)能支持。

掩模版制造是半導體產(chǎn)業(yè)鏈的關鍵環(huán)節(jié)，而掩模版則是連通芯片設計和制造的紐帶，其作用在于承載設計圖形，通過光線透射將設計圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上，是光刻工藝中不可或缺的部件。

國內(nèi)多個相關項目迎來新進展

除了晶合集成外，今年以來，江蘇路芯半導體、清溢光電、無錫迪思等國內(nèi)多個相關項目迎來了新的進展。

今年1月，江蘇路芯半導體技術(shù)有限公司掩膜版生產(chǎn)項目奠基開工。
 

據(jù)“蘇州工業(yè)園區(qū)發(fā)布”介紹，該項目擬投資20億元，占地面積74畝，建成后具備年產(chǎn)約35000片半導體掩膜版生產(chǎn)能力，技術(shù)節(jié)點達到28nm，可廣泛應用于高性能計算、人工智能、移動通信、智能電網(wǎng)、高速軌道交通、新能源汽車等眾多產(chǎn)業(yè)涉及的集成電路半導體芯片制造、封裝等領域。

項目分兩期建設，一期規(guī)劃生產(chǎn)45nm及以上的節(jié)點掩膜版；二期規(guī)劃生產(chǎn)28nm及以上的節(jié)點掩膜版，預計2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。

今年3月，清溢光電“平板顯示及半導體用掩膜版”生產(chǎn)基地（佛山南海）建設項目正式開工。

據(jù)悉，該項目總體投資約35億元，將建設平板顯示配套掩膜版生產(chǎn)線、半導體IC配套掩膜版生產(chǎn)線，實現(xiàn)250—28nm光掩膜版量產(chǎn)，滿足8寸和12寸晶圓廠掩膜版需求，年產(chǎn)光掩膜版80000片。

其中，“高端半導體掩膜版生產(chǎn)基地建設項目一期”的產(chǎn)品覆蓋250nm-65nm制程的高端半導體掩膜版。高端半導體掩膜版項目計劃總投資6億元，可提高公司半導體掩膜版產(chǎn)品的技術(shù)能力和產(chǎn)能，優(yōu)化半導體掩膜版的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，可逐步實現(xiàn)130nm、65nm以及更高節(jié)點的高端半導體掩膜版的量產(chǎn)，提升清溢光電在半導體掩膜版行業(yè)供給能力。

圖片來源：拍信網(wǎng)

7月中旬，無錫迪思高端掩模項目完成關鍵設備安裝調(diào)試，產(chǎn)線順利貫通，并于7月12日完成首套90nm高端掩模產(chǎn)品的生產(chǎn)與交付。
 

據(jù)“無錫高新區(qū)商務局”介紹，無錫迪思是華潤微電子旗下子公司，是國內(nèi)最早從事光掩模制造的專業(yè)企業(yè)之一。自2021年以來，無錫迪思順利實施兩輪融資，在無錫高新區(qū)投資約20億元，建設高端掩模項目。該于2022年11月開工，歷經(jīng)18個月，相繼完成廠房封頂、設備搬入、工藝調(diào)試、產(chǎn)線貫通等重大里程碑任務。
 

據(jù)悉，2024年下半年無錫迪思將聚焦90nm制程量產(chǎn)，2025年完成40nm量產(chǎn)，2026年實現(xiàn)28nm升級，持續(xù)增強核心競爭力。項目達產(chǎn)后，將新增90nm-28nm高端掩模版產(chǎn)能2000片/月，總產(chǎn)能達5000片/月。
 

此外，寧波前灣新區(qū)管理委員會官網(wǎng)消息，近日，寧波冠石半導體有限公司迎來關鍵節(jié)點，企業(yè)引入首臺電子束掩模版光刻機。據(jù)悉，該設備是光掩模版40納米技術(shù)節(jié)點量產(chǎn)及28納米技術(shù)節(jié)點研發(fā)的重點設備。
 

目前，我國高精度半導體光掩模版產(chǎn)品主要仍依賴于進口，國產(chǎn)化率極低。據(jù)冠石相關負責人介紹，企業(yè)正加速推進海外布局戰(zhàn)略，并在世界一流半導體光掩模版制造技術(shù)班底的加持下，預計今年底，企業(yè)將陸續(xù)實現(xiàn)為國內(nèi)外中高端集成電路掩模版提供制版服務。