Lace Litho 所稱的 BEUV 理論上可以實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的特征，支持晶體管的持續(xù)小型化并延伸摩爾定律。
該公司由卑爾根大學(xué)首席執(zhí)行官 Bodil Holst 教授和首席技術(shù)官 Adria Salvador Palau 于 2023 年 7 月共同創(chuàng)立，后者在卑爾根大學(xué)獲得博士學(xué)位，但目前在西班牙巴塞羅那運(yùn)營。
傳統(tǒng)的 EUV 系統(tǒng)使用 13.5nm 波長的光，通過一系列反射鏡和掩模在晶圓上形成圖案。原子光刻技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)直接無掩模圖案化，其分辨率甚至小于受波長限制的 EUV 系統(tǒng)所能達(dá)到的分辨率。
該公司在其網(wǎng)站上聲稱：“通過使用原子代替光，我們?yōu)樾酒圃焐烫峁┝祟I(lǐng)先當(dāng)前技術(shù) 15 年的功能，而且成本更低、能耗更低。”
Salvador Palau 和 Holst 教授共同撰寫了一篇發(fā)表在《物理評(píng)論 A》上的論文，題為《利用中性氦原子進(jìn)行真實(shí)尺寸表面映射》。該論文詳細(xì)介紹了立體氦顯微鏡的實(shí)現(xiàn)和操作。
FabouLACE 是一個(gè)由歐盟資助的項(xiàng)目，旨在開發(fā)基于色散力掩模的氦原子光刻技術(shù)，其預(yù)算為 250 萬歐元，由歐洲創(chuàng)新委員會(huì)提供。該項(xiàng)目啟動(dòng)日期為 2023 年 12 月 1 日，將持續(xù)到 2026 年 11 月 30 日。
FabouLACE 采用亞穩(wěn)態(tài)原子和基于色散力的掩模，可實(shí)現(xiàn) 2 納米工藝。歐盟委員會(huì)表示，Lace 光刻技術(shù)已獲授權(quán)在 2031 年前將該技術(shù)推向市場。與此同時(shí)，該技術(shù)的性能將由 IMEC 研究機(jī)構(gòu)進(jìn)行監(jiān)測和驗(yàn)證。NanoLACE 是歐洲早期的一個(gè)研究項(xiàng)目，于 2024 年 12 月 31 日結(jié)束。該項(xiàng)目于 2019 年啟動(dòng)，已獲得 336 萬歐元的資助，其預(yù)算為 365 萬歐元。
Lace Lithography 于 2023 年 7 月籌集了約 450,000 歐元的種子輪融資，由 Runa Capital、Vsquared Ventures、Future Ventures、歐洲創(chuàng)新委員會(huì)、挪威創(chuàng)新局和挪威研究委員會(huì)提供支持。
