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柵極氧化層在SiC MOSFET設(shè)計中的重要作用

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  ·英飛凌工業(yè)半導(dǎo)體 趙佳   碳化硅功率半導(dǎo)體在光伏、充電、電動汽車等行業(yè)得到了廣泛應(yīng)用,其潛力毋庸置疑。然而,從當前高功率碳化硅MOSFET來看,仍存在一個難題:即如何實現(xiàn)平衡性能、魯棒性、可靠性和易用性的設(shè)計。比導(dǎo)通電阻是衡量SiC MOSFET技術(shù)先進性的關(guān)鍵參數(shù),但其它標準,例如可靠性,也是制約器件表現(xiàn)的重要因素。對于不同的應(yīng)用,導(dǎo)通電阻與可靠性之間的折衷也略有差異。因此,合理的器件定義應(yīng)當保證設(shè)計靈活性,以滿足不同的任務(wù)需求,無需大量設(shè)計工作和設(shè)計布局變化。      [登陸后可查看全文]
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